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장비 정보
Rapid thermal annealing system (RTA)급속 열처리 시스템
| 호실 | CRC 102호 EPI Room |
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| 제조사(모델) | ISTE (RTA-M1502) |
| 담당자 | 김보명 |
| 이메일 | billionp10@yu.ac.kr |
| 연락처 | 053-810-4832 |
예약 하기
2026년 09월
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| 일 | 월 | 화 | 수 | 목 | 금 | 토 |
| 1수리중 | 2수리중 | 3수리중 | 4수리중 | 5수리중 | ||
| 6수리중 | 7수리중 | 8수리중 | 9수리중 | 10수리중 | 11수리중 | 12수리중 |
| 13수리중 | 14수리중 | 15수리중 | 16수리중 | 17수리중 | 18수리중 | 19수리중 |
| 20수리중 | 21수리중 | 22수리중 | 23수리중 | 24수리중 | 25수리중 | 26수리중 |
| 27수리중 | 28수리중 | 29수리중 | 30수리중 | |||
오늘예매가능한 날짜선택한 날짜종료
원리 및 특성
• layer activation을 위한 rapid thermal annealing
• Oxidation layer 형성
• Thermal diffusion 실행