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장비사용예약

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장비사용예약

장비 정보

광 발광 측정시스템

PL mapping system광 발광 측정시스템

장비명, 호실, 제조사, 모델명, 담당자, 담당자연락처, 담당자메일주소를 안내하는 표
호실 CRC 102호 Measurement Room
제조사(모델) EtaMax (PLATOM)
담당자 최성욱
이메일 wellggo7@yu.ac.kr
연락처 053-810-4896

예약 하기

예약일정
이전달 2026년 09월 다음달
1수리중 2수리중 3수리중 4수리중 5수리중
6수리중 7수리중 8수리중 9수리중 10수리중 11수리중 12수리중
13수리중 14수리중 15수리중 16수리중 17수리중 18수리중 19수리중
20수리중 21수리중 22수리중 23수리중 24수리중 25수리중 26수리중
27수리중 28수리중 29수리중 30수리중
오늘예매가능한 날짜선택한 날짜종료

원리 및 특성

· LED 및 VCSEL 칩의 광특성 평가
· AlGaN, GaN 등의 에피택셜 층의 두께 및 조성 분석
· SiC 웨이퍼의 결함 및 균일도 검사
· 에피 웨이퍼의 품질 관리 및 공정 모니터링

규격

지원 웨이퍼 크기 : 2", 4", 6", 8" (카세트 로딩 지원)
측정 파장 범위 : 380 nm ~ 800 nm (스펙트로미터 기준)
펌핑 레이저 옵션 : 266 nm, 405 nm, 532 nm 등 최대 3종 장착 가능
공간 해상도 : 0.5 mm (2"), 1 mm (4"), 2 mm (8")
측정 항목 : 피크 파장(Wp), 중심 파장(Wd), 피크 강도, 적분 강도, FWHM 등
두께 측정 방법 : 반사 간섭법 (광 간섭 기반)
두께 측정 정확도 : GaN 필름 기준 ±3%
PL 강도 측정 정확도 : 피크 및 적분 강도 기준 ±5%
픽셀 해상도 : 0.13 nm/pixel (하드웨어 기준)
소프트웨어 기능 : 라인 프로파일, Susceptor Viewer, 칩 인덱싱, 결함 좌표화 등

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