장비사용예약
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장비 정보
Mask Aligner노광기(P150)
| 호실 | CRC 102호 Photo Room |
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| 제조사(모델) | PROwin (P150) |
| 담당자 | 권지훈 |
| 이메일 | kjhoon@yu.ac.kr |
| 연락처 | 053-810-4834 |
예약 하기
2026년 09월
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오늘예매가능한 날짜선택한 날짜종료
원리 및 특성
반도체 및 MEMS 공정에서 포토리소그래피(Photolithography) 공정을 수행하는 장비로,
마스크(Mask)에 새겨진 패턴을 감광막(Photosensitive Resist)이 코팅된 웨이퍼(Substrate) 위에 자외선(UV)을 이용하여
정밀하게 전사(Transfer)하는 것이 핵심 원리이다
규격
- Type : Touch PC control & semi-auto system
- Mask size: up to 7 inch × 7 inch
- Substrate size: piece to 6 inch
- Resolution: 1 μm
- Alignment accuracy: 1 μm
- Lamp & power supply: 350 W
- Wavelength: 350-450 nm
- UV intensity: 15-25 mW/cm2
- UV beam uniformity: 3~5%
- Contact Mode: Vacuum/Hard/Soft/Proximity
- Microscope: Dual CCD Zoom
- Stage: Z Axis Motor