원리 및 특성

장비특성
KVE-E4000 장비는 고진공 시스템을 기반으로 작동하며, 로터리 펌프와 크라이오 펌프를 조합하여 10⁻⁷ Torr 이하의 진공 환경을 구축한다.
증착 소스로는 전자빔 가열 방식을 채택하여, 고에너지 전자를 소재에 직접 조사함으로써 높은 에너지 효율과 우수한 증착 품질을 달성할 수 있다.
장비는 최대 6개의 증착 소스를 장착할 수 있어, 다층 박막 또는 복합재료의 증착이 가능하다.
또한, Quartz Crystal Monitor(QCM)를 통한 실시간 두께 및 증착 속도 제어 기능과, 기판 가열 및 회전 기능을 제공하여 박막의 균일성과 밀착성을 향상시킨다.
공정 제어는 PC 기반 소프트웨어를 통해 정밀하게 수행된다.

동작 원리
KVE-E4000 전자빔 증착기의 동작은 다음과 같은 순서로 진행된다.
먼저, 로터리 펌프를 이용하여 1차 진공을 형성하고, 이어서 크라이오 펌프를 가동하여 고진공 상태를 달성한다.
진공이 확보된 후, 캐소드에서 방출된 전자가 전기장에 의해 가속되어 타겟 소재에 충돌한다.
이 과정에서 소재 표면에 국소적인 고온 영역이 형성되어 소재가 기화되거나 승화된다.
기화된 원자나 분자는 진공 상태에서 자유롭게 이동하며 기판 표면에 도달하여 물리적으로 흡착하게 된다.
박막이 형성되는 동안 Quartz Crystal Monitor(QCM)를 통해 증착 속도와 두께를 실시간으로 모니터링하며,
설정된 목표 두께에 도달하면 전자빔을 차단하고 증착을 종료한다.
이후 챔버를 벤팅하여 대기압으로 복귀시키고, 시료를 회수함으로써 전체 공정이 완료된다